metrology; linewidth; photomask; traceability; standard;
机译:先进光掩模上线宽计量测量技术的比较
机译:蒙特卡洛模型在国家物理实验室光掩模线宽测量中的应用
机译:NIST影像库可帮助改善线宽测量
机译:更新了NIST光掩模线宽标准
机译:激光诱导氧化锌合金薄膜,用于直接写入灰度光掩模
机译:重新分析直径0.895 µm(NISTSRM®1690)和直径0.269 µm(NISTSRM®1691)球形标准品的不确定度
机译:亮铬光掩模的线宽校准
机译:Bright-Chromium光掩模的线宽校准