lithography; excimer laser bandwidth; chromatic aberrations; optical proximity correction; mask error enhancement factor;
机译:低K {sub} 1成像的掩模误差张量和掩模误差增强的因果关系:理论与实验
机译:低K {sub} 1成像的掩模误差张量和掩模误差增强的因果关系:理论与实验
机译:抗蚀剂对掩模误差增强因子的影响
机译:照明光谱宽度对掩模误差增强因子的影响和0.6NA KRF成像中的异密偏压
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:双DMD高光谱空间频域成像(SFDI)使用分散的宽带照明血迹光谱监测的演示
机译:照明光谱宽度影响0.6Na KrF成像中的掩模误差增强因子和等密度偏差