top surface imaging; bilayer resist; organometallic; electron beam lithography; dry development;
机译:内壳辐照对辐射敏感的新型高分子抗蚀材料的选择性破碎
机译:通过双技术双层方法提高ALO_X MEMISTOR中的DC / AC电阻切换性能
机译:辐射敏感的新型高分子抗蚀材料:迭代合成及其EUV碎片研究
机译:使用单组分金属有机前驱体进行高分辨率电子束光刻的混合双层成像方法
机译:真空敏感,辐射敏感和结构精致的材料的透射电子显微镜。
机译:在前体淋巴管内皮细胞瘤中发生的辐射诱发和辐射敏感的迟发性血管肉瘤
机译:pH敏感的抗蚀剂材料,用于蛋白质和流体脂质双层的组合光刻图案化