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Recent advances in MeV ion implantation

机译:MeV离子注入的最新进展

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摘要

We review recent results and trends of high energy (MeV) implantation in the mechanical, electronic and optical domains, with applications ranging from point defect engineering to microstructure patterning. In many cases, it is shown that damage creation resulting from electronic interactions considerably affects the usual description of collision cascades that are valid at lower energies. Promising applications emerging in polymers are described.
机译:我们回顾了机械,电子和光学领域高能(MeV)注入的最新结果和趋势,其应用范围从点缺陷工程到微结构图案化。在许多情况下,已经表明,由于电子相互作用而产生的破坏会大大影响通常在较低能量下有效的碰撞级联的描述。描述了在聚合物中出现的有希望的应用。

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