机译:通过大分子单体方法容纳含有刚性聚(二烷基型富马酸盐)分支的接枝共聚物的合成
机译:具有降冰片烯衍生物的二烷基富马酸酯的新共聚物,其在193nm波长下为亚0.2μm光刻:合成和热和光化学变换
机译:<重点类型=“粗体”>含有胆酸的光敏感生物基共聚物:248Nm光致抗蚀剂的新型功能材料重点>
机译:富马酸二烷基酯共聚物:用于深紫外和中紫外微光刻的新型光刻胶材料
机译:随着二氧化碳的发展,加聚反应合成用于微光刻的光致抗蚀剂。
机译:芳基环氧热固性树脂的光刻性能作为微光学的阴性光致抗蚀剂
机译:特别问题/最近微光刻表的光致抗蚀剂的趋势和未来。多层抗蚀剂的近期趋势和未来对微光术进行抗蚀剂。