IMS Lab., Univ. Bordeaux 1, Talence;
Schottky barriers; Schottky gate field effect transistors; carbon nanotubes; hardware description languages; nanotube devices; semiconductor device models; tunnel transistors; C; I-V characteristics; Schottky barrier CNTFET; VHDL-AMS; Verilog-A language; analytical modeling; hardware description language; tunneling current; One; five; four; three; two;
机译:栅介电材料对不同沟道长度的弹道肖特基势垒石墨烯纳米带场效应晶体管和碳纳米管场效应晶体管电流-电压特性的依赖性
机译:肖特基势垒碳纳米管场效应晶体管的简单漏极电流模型
机译:肖特基势垒碳纳米管场效应晶体管的简单漏极电流模型
机译:使用Verilog - 一种语言的肖特基屏障碳纳米管场效应晶体管隧穿电流的分析模型
机译:隧道场效应晶体管的解析模型和GaN高电子迁移率晶体管的实验研究。
机译:碳纳米管悬浮肖特基势垒晶体管中Van Hove奇异性和电特性的温度依赖性的观察
机译:肖特基屏障碳纳米管场效应晶体管的简单漏极电流模型