MOSFET; titanium compounds; polygate replacement through contact hole; high-k metal gate; MOSFET configurations; standard FE process; gate oxide; gate stack; voltage control; multioxide; metal gate integration; nMOS; pMOS; slot plane antenna oxide; TiN DG inverters; SRAM; 90 nm; TiN;
机译:等离子体诱导的高k /金属栅与SiO_2 /多栅互补金属氧化物半导体技术可靠性之间的比较
机译:带有替换高k金属栅叠层的大体积FinFET阈值电压的两种调整方法
机译:W与Co-Al作为栅极填充金属,用于(子)22 nm技术节点的大规模替代高k /金属栅极器件
机译:通过接触孔进行多栅极替换(PRETCH):一种用于高k /金属栅极和在芯片上实现多氧化物的新方法
机译:金属双层/氧化物/硅,高k氧化物/硅以及垂直硅纳米线的“端对端”金属触点的弹道电子发射显微镜和内部光发射研究。
机译:使用高亮度傅立叶变换法将等离激元孔阵列表征为有机光伏的透明电触点
机译:具有集成欧姆接触的碳纳米管场效应晶体管 和高k栅介质