MOSFET; nanoelectronics; cobalt compounds; silicon; semiconductor device metallisation; SON PMOS devices; silicon on nothing devices; SON transistors; mid-gap CoSi/sub 2/ metal gate; total gate silicidation; Si-conduction channel; P-MOSFETs; p-channe;
机译:检查三重材料双栅极硅无氧化金属氧化物半导体场效应晶体管具有等级信道浓度的短频道特性和性能
机译:在SOI岛中制造的全耗尽双栅极薄膜SOI P-MOSFET,具有隔离的掩埋多晶硅背栅
机译:使用超薄再氧化氮化栅氧化物抑制BF / sub 2 // sup +/-注入的多晶硅栅p-MOSFET中的硼渗透
机译:SON(无硅)P-MOSFET在5 nm厚的Si膜上完全硅化(CoSi 2 sub>)多晶硅:在薄FD沟道上集成金属栅极的最简单方法
机译:通过聚焦离子束注入和银金属化与薄膜硅化物层的集成形成纳米结构的硅化物。
机译:具有TiO2栅极电介质的超薄VO2通道中的正偏置栅极控制的金属-绝缘体过渡
机译:面向IC内部集成的平面内无硅纳米级谐振悬浮栅极MOSFET
机译:在蓝宝石上的500 a薄膜硅中制造具有0.2微米栅极长度的n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管。 (重新公布新的可用性信息)