机译:布局图案与CMP工艺相互作用引起的多种ILD厚度变化的解析模型
机译:布局图案和CMP工艺相互作用引起的多个ILD厚度变化的解析模型
机译:纳米级MOSFET分析栅极边缘电容模型,具有布局依赖性效应和过程变化
机译:布局图案和CMP工艺相互作用诱导的多级ILD厚度变化的分析模型
机译:化学机械平面化(CMP)的芯片规模建模,用于取决于布局的变化。
机译:用于可视化物理和遗传交互网络的多级布局算法重点在于其模块化组织
机译:使用统计计量来理解氧化物Cmp工艺中依赖于图案的ILD厚度变化