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A capacitance-voltage measurement method for DMOS transistor channel length extraction

机译:DMOS晶体管沟道长度提取的电容电压测量方法

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摘要

This paper reports a new measurement method for extraction of sub-micrometer channel lengths in DMOS transistors. The method is based on capacitance-voltage measurements of the gate to source, gate to p-base and gate to drain capacitances. A channel length of 0.3 /spl mu/m has been measured on DMOS transistors. Numerical device simulations and small-signal capacitance simulations support the results and the measurement principle.
机译:本文报道了一种新的测量方法,用于提取DMOS晶体管中的子微米通道长度。该方法基于栅极的电容 - 电压测量到源极,栅极到P底座和栅极以漏电容。在DMOS晶体管上测量了0.3 / SPL MU / M的通道长度。数值设备模拟和小信号电容模拟支持结果和测量原理。

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