首页> 外文会议> >Low threshold MBE-grown AlInGaAs-AlGaAs strained multiquantum-well lasers by rapid thermal annealing
【24h】

Low threshold MBE-grown AlInGaAs-AlGaAs strained multiquantum-well lasers by rapid thermal annealing

机译:通过快速热退火低阈值MBE生长的AlInGaAs-AlGaAs应变多量子阱激光器

获取原文

摘要

With post-growth rapid thermal annealing (RTA), 818 nm strained Al/sub 0.15/In/sub 0.25/Ga/sub 0.6/As multiquantum-well (MQW) lasers grown by solid source molecular beam epitaxy (MBE) showed a record low threshold current density of 83 A/cm/sup 2/ per well. Ridge waveguide lasers fabricated from the same material exhibited pulsed threshold current of 5 mA with 62% differential quantum efficiency.
机译:借助生长后快速热退火(RTA),通过固体源分子束外延(MBE)生长的818 nm应变Al / sub 0.15 / In / sub 0.25 / Ga / sub 0.6 / As多量子阱(MQW)激光器显示了创纪录的记录每孔83 A / cm / sup 2 /的低阈值电流密度。用相同材料制成的脊形波导激光器显示出5 mA的脉冲阈值电流,差分量子效率为62%。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号