Department of Physics, IIT Delhi, Delhi -110016, India;
I.Physikalisches Institut der RWTH Aachen, D-52056 Aachen, Germany;
N_2 doping into Ge_2Sb_2Te_5; quantitative analysis of nitrogen; interfacial energy;
机译:Ge-In-Sb-Te记录层中掺氮提高相变光盘的数据传输速率
机译:氧和氮掺杂对GeSbTe相变光学记录介质性能的影响
机译:使用Ge成核层垂直记录的Co-Cr层的结构,磁性和记录特性
机译:氮掺杂对Ge_2SB_2TE_5记录层结构和光学性质的影响
机译:用于光学记录的蒸镀钴/铂多层薄膜的性能
机译:掺杂温度和氮前驱物对氮掺杂还原氧化石墨烯的物理化学光学和电导性质的影响
机译:氧气和氮掺杂对GEBBTE相变光学记录介质特性的影响