Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface, UPMC/ENSCPrnUPRES 287, 11 rue P. et M. Curie, F-75231 PARIS Cedex 05.rnTél: 33 1 44 27 67 20 Fax: 33 1 43 26 37 38rne-mail: eliane-sutter@enscp.jussieu.fr;
Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface, UPMC/ENSCPrnUPRES 287, 11 rue P. et M. Curie, F-75231 PARIS Cedex 05;
Laboratoire de Génie des Procédés Plasmas et Traitements de Surface, UPMC/ENSCPrnUPRES 287, 11 rue P. et M. Curie, F-75231 PARIS Cedex 05;
EQCM; Impinging liquid jet; RDE; copper;
机译:在含钾离子的二甲基甲酰胺-水混合溶剂溶液中用石英晶体微天平同时测量C_(60)膜的电化学和压电微重力
机译:用耗散金电极沉积在沉积的巯基甲基吡啶型石英晶体微稳定上储存牛血清白蛋白的吸附:通过耗散电化学石英晶体微稳定研究
机译:微流控装置和电化学石英晶体微量天平在铜电沉积过程中多组分添加剂行为的电化学研究
机译:碱性溶液中铜阳极溶解电化学研究碱性溶液中的电化学晶体微稳态(EQCM)
机译:铜电沉积与电化学石英晶体微量天平的界面研究。
机译:液体中AT切割石英晶体微天平应用的接口电子系统综述
机译:线性扫描伏安法耦合到石英晶体微稳定,用于研究Mg(II)-水电化学系统的催化活性,并管理Mg氧 - 氢氧化物水合状态
机译:改进的热电冷却石英晶体微量平衡