Lawrence Livermore National Laboratory 7000 East Avenue, L-592 Livermore, CA 94550;
laser damage; laser damage growth; laser damage growth threshold; UV fused silica;
机译:355 nm小激光束照射下熔融石英不同初始损伤部位的损伤生长特性
机译:结合湿法蚀刻和实时损伤事件成像,发现熔融石英中最危险的激光损伤引发剂
机译:大孔径熔融石英光学元件在351 nm处的激光诱导损伤增长
机译:351 nm和1053 nm同时照射下熔融石英中的激光损伤生长
机译:熔融石英中的高功率激光损坏。
机译:纳米石英激光在熔融石英光栅上的多波长生长
机译:激光诱导的损伤在1064nm的颗粒污染熔融石英表面上引发