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1053nm高速窄线宽激光器

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第一章绪论

第二章理论分析

第三章激光器的设计

第四章工艺设计

第五章质量控制

第六章性能参数和特性曲线

第七章结束语

致谢

攻读硕士学位期间从事的科研工作

参考文献

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摘要

由于半导体激光器体积较小并且调制方便,因此在某些高速相干通信系统中,具有很高调制带宽和窄线宽的1053nm半导体激光器可以取代固体激光光源。 本论文详细论述了1053nm高速窄线宽半导体激光器的研制过程。进行了调制带宽、量子阱和应变量子阱、条形结构、线宽、外腔和光纤光栅的理论分析。给出了激光器的具体设计过程。为了提高1053nm激光器的调制带宽和压窄其线宽,我们进行了如下工作:根据要求选择渐变折射率分别限制异质结的InGaAs/GaAs单量子阱激光器结构;计算有源区的厚度和In组分以及其它外延层的材料参数;根据薄膜光学的原理设计单层增透膜和多层高反膜;为获得窄线宽设计了均匀光纤光栅;在研究过程中不断优化工艺,如脊形波导制作、欧姆接触、键合、与光纤耦合等;设计了激光器的高频封装。通过反复实验,最终我们得到了性能优良的器件。

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