Texas Instruments, Tucson Device Analysis Operations Laboratory 5411 E. Williams Blvd, Tucson, Arizona 85711 USA kstaller@ti.com;
机译:暴露于低能高通量氘等离子体中的铁和铜的表面改性和溅射腐蚀
机译:氢掺入对适用于50nm以下W型多金属栅极器件的低温等离子体选择性氧化形成的栅极氧化物可靠性的影响
机译:用低温等离子体处理的聚酰胺内固定装置的无菌,力学性能和分子稳定性。
机译:低温等离子体铜引线粘结和露出铜金属化装置的腐蚀
机译:X射线光电子能谱法在低温下原位氧化研究铜,锡和铜锡金属间化合物
机译:一种简单的低温玻璃键合工艺具有用于微/纳米流体装置的氧等离子体的表面活化
机译:含银和/或锡的低熔点铜磷钎料的传播:熔点低铜磷钎料(报告IV)(物理,工艺,仪器与测量)