EPFL-CRPP, Lausanne, Switzerland;
机译:低压等离子体喷涂薄沉积不同相组成和微结构的La1-x sub> Sr x sub> Fe1-y sub> Co y sub>O3-δ sub>涂层电影(LPPS-TF)工艺
机译:低压等离子体喷涂薄膜(LPPS-TF)工艺沉积具有不同相组成和微结构的La_(1-x)Sr_xFe_(1-y)Co_yO_(3-δ)涂层
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积法沉积低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜性能的影响
机译:在大面积薄膜沉积的低压下新的喷涂过程中的等离子体喷射性能
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:直流和射频等离子体射流的大气压等离子体沉积有机硅薄膜
机译:通过直流和射频等离子体喷射器的有机硅薄膜的大气压等离子体沉积
机译:氩气和氢气低压射频等离子体中氯硅烷等离子体变量与si薄膜沉积过程的相关性