Extreme Energy-Density Research Institute, Nagaoka University of Technology, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan;
chromium oxynitride; oxidation behavior; pre-oxidation; pulsed laser deposition;
机译:脉冲激光沉积合成非晶铟锌氧化物薄膜的光学性质
机译:脉冲激光沉积合成的氧化锡锑(ATO)薄膜的电致变色性能
机译:脉冲激光沉积在不同注量下合成的B-C-N薄膜的键合结构和力学性能
机译:脉冲激光沉积合成Cr(N,O)薄膜的氧化性能
机译:基于脉冲激光沉积合成的二氧化钒薄膜的可逆绝缘体-金属跃迁的开关应用。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:脉冲激光沉积和杂交物理化学气相沉积方法合成的MGB2薄膜树突雪崩的对比研究