Key Lab for Physical Electronics and Devices Ministry of Education, Xi'an Jiaotong University, 710049 Xi'an, China;
diffusion barrier; Zr-Si-N; annealing ambient; chemical stability;
机译:Zr-Si-N扩散阻挡层在Cu / Si接触系统中的高温稳定性
机译:Zr-Si-N / Zr双层薄膜作为铜超大规模集成金属扩散阻挡层的研究
机译:不同溅射偏压的Zr-Si-N扩散阻挡膜的表征
机译:排队时间对后铜障壁种子,电镀,退火和化学机械抛光的缺陷率的影响
机译:通过化学退火提高非晶硅太阳能电池的稳定性。
机译:一步和两步退火方法在高温下制备的自扩散Sn扩散Fe2O3阳极的光电化学阻抗和光学数据
机译:通过皮肤屏障的药物/化学扩散的微观模型:细胞间脂质扩散各向异性的影响
机译:化学惰性环境中的粘附:填充聚合物作为扩散障碍的用途