RD Association for Future Electron Devices, Advanced Power Device Laboratory, AIST Tsukuba Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
4H-SiC; contact; contact annealing; contact resistance; α-SiC;
机译:用于功率器件应用的p型SiC和GaN合金欧姆接触的微观结构和传输特性
机译:适用于4H-SiC功率器件的低电阻Ti-Si-C欧姆接触,采用激光退火
机译:功率器件背面欧姆触点在n(+)4H-SiC C面上的硅化硅化作用的表征
机译:6H-SIC器件制造过程中基于镍的金属化:欧姆触点,掩模和包装
机译:用于低温制造集成电路器件的新颖工艺和结构。
机译:使用聚焦离子束技术的欧姆接触制备和层半导体纳米结构的电学表征
机译:溅射沉积Ti在4H-SiC上一步合成Ti3SiC2欧姆接触的过程