Ebara Corporation, 20-1 Nakasode, sodegaura, Chiba 299-0296, Japan;
ion beam mixing; TiCrN films; friction and wear; disk on disk sliding; high temperature steam;
机译:动态离子束混合法制备TiN薄膜的针孔缺陷评估
机译:动态Jon束混合法制备的TiN薄膜的针孔缺陷评估*
机译:针孔缺损动态Jon梁混合方法制备的锡膜的评价*
机译:由动态离子束混合方法制备的扭转膜的特性
机译:电离簇束技术制备磁性薄膜的研究
机译:室温电子束蒸发制备透明导电氧化物膜的三明治结构研究
机译:通过动态离子束混合方法制备的锡膜的针孔缺陷评价