机译:新型α-胺官能化二氧化硅基分散体,用于在化学机械抛光过程中在二氧化硅,氮化硅或铜上选择性抛光多晶硅和Si(100)
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)的磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:通过氮化硅和氧化硅化学机械抛光反转氢倍半硅氧烷图像
机译:氮化硅,碳化硅和氧化硅化学机械平坦化的创新可调抛光配方的研制
机译:化学机械抛光过程中可调节的二氧化硅,氮化硅和多晶硅膜的去除率。
机译:热化学制氢用涂层碳化硅碳化硅(SiSiC)蜂窝结构的材料分析
机译:用于先进热机应用的碳化硅与碳化硅和氮化硅与氮化硅的连接的分析和实验评估
机译:非氧化物结构陶瓷腐蚀的基础研究。第1卷。单晶碳化硅和第2卷,化学气相沉积的氮化硅。最终报告1985年1月1日至1988年6月30日