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Roll-to-Roll Atomic Layer Deposition for Flexible Substrates

机译:柔性基板的卷对卷原子层沉积

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摘要

1. Functional structures with roll-to-roll ALD deposited barrier layers are possible for paper and paperboard based materials. 2. It is important to avoid contamination of the substrate prior to the ALD deposition process. 3. As the ALD coatings are sensitive to mechanical stresses, it is important to remember careful web handling. 4. Lamination of the ALD layer underneath a sealing layer is recommended to protect the barrier layer quality.
机译:1.具有卷到卷ALD沉积阻挡层的功能结构可能适用于基于纸张和纸板的材料。 2.重要的是要避免在ALD沉积工艺之前污染基板。 3.由于ALD涂层对机械应力敏感,因此重要的是要谨记小心的纤维网处理。 4.建议在密封层下面层压ALD层,以保护阻挡层的质量。

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