Department of Electrical and Electronic Engineering, Sophia University, 7-1 Kioi-cho, Chiyoda-ku, Tokyo 102-8554, Japan;
molecular beam epitaxy; quantum wells; superlattices; semiconducting II-VI materials; semiconducting indium phosphide; semiconducting quaternary alloys;
机译:InP衬底上BeZnCdSe四元系的MBE生长,MgSe / BeZnCdSe超晶格和量子阱结构
机译:InP衬底上新型MgSe / ZnSeTe:N II-VI复合超晶格准四元共聚物的MBE生长及其在发光二极管中的应用
机译:Zn辐照对InP基体上MgSe / BeZnSeTeⅡ-Ⅵ复合超晶格MBE生长的影响
机译:MBE Bezncdse四季度的成长,Mgse / Bezncdse超晶格和INP基板上的量子井结构
机译:MBE在纳米图案化的衬底上生长高度有序的砷化铟/砷化镓和砷化铟镓/砷化镓量子点。
机译:InGaAs / InAlAs / InP量子级联激光器的In0.52Al0.48As波导层MBE生长条件的优化
机译:InP上InGaAs表面结构修饰超晶格上均匀InAs量子点的生长
机译:alGaInas / Inp和InGaas-Inalas超晶格的mBE生长和性质研究。最终报告,1986年4月15日至1989年12月14日。