Inst. of Electron., Nat. Chiao-Tung Univ., Hsin-Chu, Taiwan;
机译:硼在P / sup +/-多晶硅/栅极氧化物界面处的渗透对双栅极CMOS技术的深亚微米器件可靠性的影响
机译:多晶硅栅工艺对超薄栅氧化层完整性的影响
机译:具有显着直接隧穿感应栅极电流的超薄氧化物CMOS技术中的模拟IC设计
机译:HF蚀刻对双栅氧化物CMOS技术的超薄芯栅氧化物完整性的影响
机译:超薄氧化物CMOS技术中的模拟集成电路设计,具有显着的直接隧穿感应栅极电流。
机译:复制体上的相互作用减轻了氧化损伤对嗜热古生菌遗传完整性的影响
机译:带有薄氮化栅氧化物的双栅CMOSFET中应力引起的泄漏电流
机译:栅氧化层厚度对硅栅CmOs辐射硬度的影响