Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
Laboratoire Systemes et Materiaux pour la Mecatronique, Universite de Savoie,BP80439, 74944 Annecy le Vieux, France;
UMR CARRTEL (INRA/Universite de Savoie), Laboratoire de Microbiologie Aquatique, BP 511, 74203 Thonon Cedex, France;
Institut Jean Lamour, UMR CNRS 7198, Nancy Universite, BP 239, F-54506 Vandoeuvre Les Nancy Cedex, France;
Institut Jean Lamour, UMR CNRS 7198, Nancy Universite, BP 239, F-54506 Vandoeuvre Les Nancy Cedex, France;
Institut Jean Lamour, UMR CNRS 7198, Nancy Universite, BP 239, F-54506 Vandoeuvre Les Nancy Cedex, France;
机译:超瑞利散射法表征纳米晶体的非线性光学性质
机译:使用去极化超瑞利散射的溶液中电荷转移配合物的几何和二次非线性
机译:使用去极化超瑞利散射的溶液中电荷转移配合物的几何和二次非线性
机译:Hyper Rayleigh散射:一种用于研究纳米晶体的纳米晶体生长机理的方法,在反向胶束溶液途径合成中具有二次光学性质
机译:非线性光学材料表征研究采用光稳定性,超瑞利散射和电场诱导的二次谐波生成技术。
机译:超瑞利散射法表征纳米晶体的非线性光学性质
机译:超瑞利散射法表征纳米晶体的非线性光学性质