Institut fuer Technische Physik, Universitaet Erlangen-Nuernberg, Erwin-Rommel-Strasse 1, D-91058 Erlangen, Germany;
photoelectron spectroscopy; a-planes; reconstruction;
机译:氢蚀刻处理6H-和4H-SiC(0001)Si表面富集度:降低重构体形成温度的方法
机译:化学气相沉积条件依赖于4H-SiC(0001),(0001)和(1100)表面的重建表面
机译:HfO_2 / SiO_2 / 4H-SiC和HfO_2 / Al_2O_3 / 4H-SiC结构的表面光电压和俄歇电子能谱研究
机译:4H-SIC富含SI重建的表面带结构研究(1100)
机译:电子结构研究吸附物诱导的表面重建。
机译:表面改性和磨料抛光之间的竞争:控制4H-SiC表面原子结构的方法(0001)
机译:mo(112)表面带结构与可能的表面重建之间的相互作用
机译:RHEED和sTm研究富含sb的alsb和Gasb(0 0 1)表面重建;杂志文章