Department of Theoretical and Experimental Physics Tomsk Polytechnic University 634050 Tomsk Russia;
Inorganic Chemistry and Center for Nanointegration Duisburg-Essen (CeNIDE) University of Duisburg-Essen D-45117 Essen Germany;
机译:模拟体液中电子束沉积磷酸钙涂层的体外研究
机译:衬底偏压对射频磁控溅射沉积含银磷酸钙涂层化学计量和结构的影响
机译:射频磁控溅射在加热的基材上沉积的含硅磷酸钙涂层的附着性能
机译:含硅钙磷酸钙涂层,由RF-磁控溅射沉积:在非细胞模拟体液中的体外研究
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:由双相磷酸钙靶沉积的射频磁控溅射涂层用于生物医学植入物应用
机译:模拟体液中电沉积磷酸钙涂层的孔隙率和粗糙度