磁控溅射沉积碳钢表面非晶钽涂层的方法

摘要

本发明公开了一种碳钢表面非晶钽涂层的磁控溅射沉积方法，其步骤为：将样品进行砂纸机械打磨和抛光处理，并超声清洗；将样品固定在超高真空磁控溅射设备溅射平台上，将靶材放入磁控溅射腔室内，关闭溅射室，抽真空达到一定的本底真空度；采用直流磁控溅射方法制备非晶钽涂层，工艺参数为：靶基距80mm，工作气体溅射高纯氩气，工作气压0.2±0.02Pa，钽靶溅射功率40W~100W,溅射时间为1.5~2.5h。该沉积方法能提供一种未辅助加热基体、可控性好的非晶钽涂层。