Department of Anatomy and Cell Biology University of Oulu P.O. Box 5000 90014 Oulu Finland;
Department of Physics University of Jyvaskyla P.O. Box 35 (YFL) FIN-40014 Jyvaskyla Finland;
Beneq Oy Ensimmainen savu FI-01510 Vantaa FinlandLaboratory of Inorganic Chemistry Department of Chemistry Aalto University School of Science and Technology P.O. Box 16100 FI-00076 Aalto Espoo Finland;
et al;
机译:可紫外线固化的面漆可防止原子层沉积(ALD)薄膜阻隔涂层的机械磨损
机译:ha和氧化锆薄膜原子层沉积(ALD)中的表面形态和结晶度控制
机译:电子设备制造的薄膜原子层沉积(ALD)工艺的表面化学
机译:ALD(原子层沉积)衍生的磷酸钙薄膜用于生物材料表面涂层 - 生物编译和骨科可容量
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:通过化学蚀刻和通过原子层沉积(ALD)沉积二氧化钛薄膜在纳米钛表面上形成微结构和纳米结构
机译:通过原子层沉积(aLD)化学蚀刻和沉积二氧化钛薄膜在纳米钛表面上形成微米和纳米结构