Argonne National Laboratory, Argonne, IL 60439, USA;
EUV source; plasma-facing components; thermal shock resistance; debris reduction;
机译:适用于极紫外光刻源组件的面向等离子体的候选材料
机译:适用于极紫外光刻源组件的面向等离子体的候选材料
机译:激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:候选等离子体面向EUV光刻源组件的胶片材料
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:EUV光刻的金属基材料