Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH, Tullastr. 2, 69126 Heidelberg, Germany;
maskless lithography; direct writing; mask aligner; laser lithography; micro fabrication;
机译:无掩模投影光刻技术,可快速灵活地生成灰度蛋白质图案
机译:无掩模光刻系统的频率分析,以产生具有均匀结构深度的连续相图案
机译:使用空间光调制器进行无掩模光刻的光学图案生成
机译:使用光学无掩模光刻技术自动生成,制作和测量用于快速成型的参数测试结构
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:快速声光雕刻用于按需非掩模光刻
机译:用微流体进行蚀刻喷墨无掩模光刻创建纳米孔的金果皮和棒生物传感器,用于使用微流体进行电化学农药监测
机译:用于可信赖的microchip生产的无掩模电子束光刻。