Dept. Applied Electronics, Tokyo University of Science, Yamazaki 2641, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
F_2 laser; KrF excimer laser; ablation; multiwavelength excitation process; excited-state absorption; fused silica; mass spectroscopy; dynamics;
机译:使用F_2和KrF准分子激光器通过多波长激发工艺对外延氮化镓膜进行深蚀刻
机译:F_2激光和KrF准分子激光同时照射进行GaN烧蚀蚀刻
机译:超薄非晶硅薄膜KrF脉冲准分子激光结晶形成Si纳米点的动力学过程
机译:使用F_2和KRF准分子激光器多波长激励过程的动力学研究
机译:戊二烯铁,戊基铬铬,己二酸铬和二茂铁-癸二烯的准分子激光光解法制得的配位不饱和金属碳氢化合物的瞬态红外吸收光谱和动力学研究。
机译:用KrF准分子激光辐照在掺杂的聚甲基丙烯酸甲酯薄膜上制备周期性表面结构
机译:飞秒KrF-准分子激光脉冲近红外双光子激发氙的非线性光学过程
机译:强辐射场下分子碰撞过程的计算研究:KrF激光器248nm光中Xe增强F的猝灭。