Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA) Micro Photonics Advanced Research Center (MPARC) Department of Information and Communication Engineering, Inha University of Incheon, Korea;
Optics and Photonics Elite Research Academy (OPERA) Micro Phot;
singlemode waveguide; UV imprint process; residual layer thickness; optical-printed circuit board;
机译:压印和释放印记:控制软UV-NIL中的柔性模具变形和残余层厚度的局部变化
机译:压印光刻中均质残留层厚度均质化模具的制造
机译:通过在S-FIL™工艺中使用优化的分配方法,将残留层的厚度降至最低
机译:单模波导制造扫描过程中残留层厚度的特征与优化
机译:用于光波导的离子自组装单层:加工,制造和表征。
机译:使用商业可紫外固化的标准共混树脂进行3D打印:优化的工艺参数,可用于制造微小的功能部件
机译:压印压力对紫外线印刷光刻中残余层厚度的影响