Chemistry Department, Columbia University, New York, NY 10027;
pellicles; fluorocarbon; hydrofluorocarbon; photochemistry; deep UV; VUV;
机译:用于光刻的157 nm薄膜(薄膜):碳氟化合物的VUV和UV-C光解的机理研究
机译:下一代157 nm深紫外光刻工具的金刚石光电探测器
机译:下一代157 nm深紫外光刻工具的金刚石光电探测器
机译:用于光刻法的157 nm颗粒:机械调查氟碳的深紫色光解
机译:设计,合成和测试157 nm光刻材料。
机译:通过水相UV光解或基于UV的高级氧化过程降解亚硝胺的机理研究:量子力学计算
机译:用于光刻的157nm薄膜:碳氟化合物深紫外光解的机理研究。
机译:远(深)紫外高强度激光(准分子)辐射脉冲在聚合物中的孔形成(蚀刻)及其与聚合物深紫外光解中光刻胶的相关性