Canon, Inc., 23-10 Kiyohara-Kogyodanchi, Utsunomiya-shi, Tochigi-ken, 321-3298, Japan;
ArF; immersion; lithography; water; bubble; imaging; interferometric exposure;
机译:膜片对1.35数值孔径浸没ArF光刻的光学接近度和临界尺寸均匀性的贡献
机译:膜片对1.35数值孔径浸没ArF光刻的光学接近度和临界尺寸均匀性的贡献
机译:通过ArF浸没光刻工艺在300 mm SOI晶片上制造的基于Si-纳米线的多级延迟Mach-Zehnder干涉仪光学MUX / DeMUX
机译:ARF浸入光刻:关键光学问题
机译:研究p53-mdm2-ARF信号回路:p53抑癌蛋白抑制ARF,ARF的癌基因激活以及活细胞中p53活性的检测
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:偏振照明对45nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:XUV投影光刻系统的光学退化问题。