Institute of Microelectronics, 11 Science Park Road, Singapore Science Park Ⅱ, Singapore 117685;
phase shift mask; side lobes; defocus; pitch; coherency; minima maxima;
机译:衰减相移掩模,用于缓解极端紫外光刻中接触孔图案中的光子散粒噪声效应
机译:使用衰减的相移掩模将图像散焦以形成接触孔图案
机译:使用衰减相移掩模进行极端紫外光刻的随机图案模拟
机译:在减振相移掩模中通过孔图案化的侧瓣和环形抗蚀剂的特征尺寸,俯仰和抗蚀剂的影响
机译:维度的祝福:特征选择优于基于功能连通性的特征转换,可从相位同步的EEG模式对ADHD主题进行分类
机译:用于多功能雷达系统数字有源相控阵天线的双通道侧瓣消隐光束图案形成研究
机译:使用pi相位移动X射线掩模来增加特征边缘处的强度斜率