Texas Instruments, Inc., 13570 N. Central Expressway, MS3700, Dallas, TX 75243;
PSM; EAPSM; mask topography; EMF simulation; CD uniformity (ACLV); kirchhoff approximation;
机译:光学仿真中具有像差和虚假掩模边缘效应的全焦点航拍图像建模
机译:使用航空和SEM图像分析评估EUV掩模对晶圆线宽粗糙度的影响
机译:使用基础掩膜图案进行光学接近度校正的快速航空影像仿真
机译:AEAPSM掩模侧壁剖面引起的空中图像劣化效果130nm-Device节点:3D EMF模拟和晶圆打印结果
机译:摘要QS15:在燃烧面膜生产中使用3D打印和成像
机译:图2:粘液模具数据生成序列包括(a)现实世界的空中地图,具有选定的主要道路(红色圆圈),(b)与地形特征和固定位置(黑点),(c)代表3d的印刷3D地图用固定位置的接种燕麦片的地图,(d)在3天孵化后产生粘液模具网络(黄色线程),(e)imagej软件可视化网络连接,(f)节点之间的自由形式和直接距离的示例长度测量使用imagej工具。