Electronic Computer Engineering Dept., University of Limerick, Limerick, Ireland;
NERIME process; nanolithography; focused ion beam; plasma etching;
机译:通过结合紫外线纳米压印光刻和聚焦离子束加工来制造金属SPM尖端
机译:通过聚焦离子束铣削和等离子蚀刻处理InP膜中的光子晶体
机译:分子吸附对电子束光刻和聚焦离子束刻蚀制备的单根金纳米线电导率的影响
机译:使用组合聚焦离子束光刻和等离子体蚀刻的两步改进的凹部工艺
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:结合聚焦的电子束诱导的沉积和蚀刻用于致密线的图案化而不互连材料
机译:聚焦离子束与低温深反应离子刻蚀相结合的纳米制造工艺的表征
机译:用于制造亚半微米栅极长度mmIC芯片的组合电子束/光学光刻工艺步骤