Research Institute of Semiconductor Devices, 99a Krasnoarmeyskaya St., Tomsk, Russia 634034;
dry cleaning; fluorocarbon residues; atomic hydrogen; low-κ dielectric;
机译:使用还原性自由基阴离子化学方法对等离子蚀刻氟碳残留物进行电化学清洗
机译:用原子氢流清洁表面以制造与GaAs和AL_xGa1-xAs的欧姆和势垒接触
机译:清洁氢原子流中的表面AlxGA_1-_X
机译:用原子氢气流干洗氟碳残基
机译:过氧化氢清洁表面残留物。
机译:氧化应激水干橄榄造纸厂残余物在向日葵幼苗根系诱导
机译:从无尘室到超高压环境的纳米包装解决方案:氢钝化Si(100)基板的制造及其用于原子尺度研究和自组装单层接枝的用途
机译:干式处理和溶剂清洗中的非挥发性残留物(NVR)污染