Advanced Micro Devices, Sunnyvale, CA;
post exposure bake; photolithography; critical dimension variation; lithography process control;
机译:PEB平板优化CD均匀性
机译:高剂量速率近距离放射治疗剂量分布的空间调整数学优化模型
机译:通过最大熵分布对cDNA微阵列图像进行背景调整。
机译:用于优化CD分布的基于时间的PEB调整
机译:胶体CdSe / CdS核/壳量子点的壳生长优化和表面配体的影响。
机译:Peb1p(Pas7p)是NH2末端硫氧化物酶的2型过氧化物酶体靶向序列的过氧化物酶体内受体:Peb1p自身通过NH2末端肽靶向过氧化物酶体
机译:优化用于hrsc图像镶嵌的束调整的连接点分布
机译:联合28天重复剂量口服毒性研究与大鼠中多乙基苯底物(pEB)的生殖/发育毒性筛选试验(OECD 422)。