NTT Photonics Laboratories, NTT Corporation, 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0198, Japan;
NTT Photonics Laboratories, NTT Corporation, 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Kanagawa 243-0198, Japan;
NTT Photonics Laboratories, NTT Corporation, 3-1;
GaN-based HFET; AlGaN/GaN HFET; MIS HFET; insulated-gate; Al_2O_3 /Si_3N_4; channel doping; insulator engineering;
机译:通过设计绝缘体/ AlGaN / GaN结构来提高MIS AlGaN / GaN HFET的器件性能
机译:通过设计绝缘体/ AlGaN / GaN结构来提高MIS AlGaN / GaN HFET的器件性能
机译:通过设计绝缘子/ AlGaN / GaN结构,在MIS Algan / GaN HFET中改进设备性能
机译:在MIS AlGaN / GaN HFETs中的绝缘子/ AlGaN结构设计更高的设备性能
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:栅漏电流在AlGaN / GaN肖特基栅HFET和MISHFET中引起的陷阱
机译:缓冲器设计可最大程度减少GaN / AlGaN HFET中的电流崩溃