KLA-Tencor Corporation, RAPID Division, USA;
EUV; reticle; photomask; inspection; NGL;
机译:通过包含先前信息改进了EUV掩模的PTYChrapue检查
机译:仪器标线,用于EUV夹具的现场爆破检查
机译:RESCAN:用于检查EUV标线缺陷的光化无透镜显微镜
机译:使用193nm标线检查器进行EUV标线检查
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:EUV和非EUV检查掩模版缺陷修复网站
机译:EUV检查光罩缺陷修复站点