XTREME technologies GmbH, Goeschwitzer Str. 25, D-07745 Jena, Germany;
EUV sources; laser-produced plasma; gas-discharge produced plasma; Z-pinch; EUV lithography;
机译:激光触发放电产生的锡等离子体EUV源放电后的间隙绝缘强度和EUV辐射恢复的研究
机译:等离子体空间轮廓对EUV光刻激光产生等离子体源转换效率的影响
机译:高平均功率的EUV光源,用于通过激光产生的等离子体进行下一代光刻
机译:用于光刻的高功率EUV源 - 激光产生的等离子体和气体放电产生的等离子体的比较
机译:研究激光产生的等离子体产生的极紫外线,作为下一代光刻的来源。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发
机译:用于EUV光刻的激光产生等离子体的高级源研究