Motorola DigitalDNA Laboratories, Austin, TX 78721;
extreme ultraviolet lithography; photoresist; resolution; line-edge roughness; photospeed; EUVL;
机译:聚(烯烃砜)的极紫外(EUV)降解:有望用作EUV光刻胶
机译:超越EUV光刻:高效的光致抗蚀剂性能的比较研究
机译:值得EUV光刻胶生产的进展:平衡光刻,除气和OOB性能
机译:EUV光刻级致力于VNL和EUV LLC的性能
机译:EUV光致抗蚀剂暴露的二次电子相互作用
机译:超越EUV光刻技术:有效光刻胶性能的比较研究
机译:使用限制倾斜电子断层扫描的EUV光致抗蚀剂参考计量的路径