IMEC, 75 Kapeldreef, 3001 Leuven, Belgium;
IMEC, 75 Kapeldreef, 3001 Leuven, Belgium;
IMEC, 75 Kapeldreef, 3001 Leuven, Belgium;
Leibniz-Institut fuer Oberflaechenmodifizierung, Permoserstr. 15, 04318 Leipzig, Germany;
IMEC, 75 Kapeldreef, 3001 Leuven, Belgium;
机译:使用紫外线照射和臭氧水去除多孔低k介电图案中的蚀刻后193 nm光刻胶
机译:Cu(0)/ Cu(Ⅱ)从强酸性废水中去除氯离子的研究:紫外线辐射提高效率及氯离子去除的机理
机译:臭氧结合电解与含自由基清除剂废水脱除1,4-二恶烷的适用性
机译:基于Cu / Low-k互连水/臭氧去除光致抗蚀剂和Barc的自由基清除剂和UV辐射的影响
机译:臭氧对紫外线过滤剂的转化:反应动力学和紫外线吸收的去除。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:使用全湿法去除Cu BEOL中的光致抗蚀剂和BaRC
机译:UV-Ozone和UV-Oxygen工艺用于从纺织品染色和整理废水中去除颜色