納米光學曝光製作光學增亮膜研究

摘要

本文為研究以納米光學近接曝光製作微結構應 根據Display Search Cost Model顯示，國內17吋用於光學增亮膜之方法，利用兩種不同的光阻：JSR與AZP4620，個別探討其特性。針對負光阻JSR，利用TracePro模擬軟體建構出光學系統，以不同外型尺寸的結構，與現有3M增亮膜做比較。由模擬結果顯示，橢圓結構長軸為20 μm、短軸為10 μm的形式，對於側光式的光源輸出，在整體均勻性有較佳的結果，而背光式的光源輸出，呈現較大的視角；針對正光阻AZP4620，光罩設計參數寬度(w)為35 μm、間隔(d)為20 μm、光罩及基材距離(h)為100 μm，結構寬度為56 μm、鋸齒角度130.43°，比較3M增亮膜後可得到更佳的光源效益。利用近接曝光成型的光學薄膜可有效的降低增亮膜的成本比重，並達到相似的效果。