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首页> 外文会议>Chemical Sensors 10 and MEMS/NEMS 10 >Electroplating of Micropatterned Nickel Phase Gratings for X-Ray Phase Contrast Tomography
【24h】

Electroplating of Micropatterned Nickel Phase Gratings for X-Ray Phase Contrast Tomography

机译：用于X射线相衬层析成像的微图案镍相光栅的电镀

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摘要

We report on a new approach of monitoring Nickel-Sulfamate based electroplating baths to obtain a more precise control of the height of x-ray phase contrast gratings. The influence of the Ti/TiO_x film substrates on electroplating start and behavior is investigated. A four phase electroplating sequence was recorded and utilized to adaptively control the height of electroplated samples.
机译：我们报告了一种监测基于氨基磺酸镍的电镀液的新方法，以更精确地控制X射线相衬光栅的高度。研究了Ti / TiO_x薄膜基材对电镀开始和行为的影响。记录四相电镀顺序，并用于自适应控制电镀样品的高度。

著录项

  • 来源
  • 会议地点 Honolulu HI(US)
  • 作者

    M. Amberger; K. Bade; J. Meiser; D. Kunka; J.Mohr;

  • 作者单位

    Institute of Microstructure Technology (IMT) Karlsruhe Institute of Technology (KIT) 76131 Karlsruhe, Germany;

    Institute of Microstructure Technology (IMT) Karlsruhe Institute of Technology (KIT) 76131 Karlsruhe, Germany;

    Institute of Microstructure Technology (IMT) Karlsruhe Institute of Technology (KIT) 76131 Karlsruhe, Germany;

    Institute of Microstructure Technology (IMT) Karlsruhe Institute of Technology (KIT) 76131 Karlsruhe, Germany;

    Institute of Microstructure Technology (IMT) Karlsruhe Institute of Technology (KIT) 76131 Karlsruhe, Germany;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-26 14:19:49

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