Institute of Microelectronics NCSR 'Demokritos' Aghia Paraskevi Athens 15310 Greece;
Institute of Microelectronics NCSR 'Demokritos' Aghia Paraskevi Athens 15310 Greece Department of Physics National Technical University of Athens 15780 Athens Greece;
euvl mask; electron-beam lithography; resist modeling; stochastic; process simulation; LER; LWR; metrology;
机译:电子束光刻制造的复杂布局的图案匹配,模拟和计量
机译:基于物理的通孔和波导模型,可在多层基板中进行有效的SIW仿真
机译:线宽度量中电荷效应的蒙特卡罗模拟(II):在绝缘体上
机译:Si / Mo多层基板上复杂布局的电子束图案化模拟和计量
机译:使用分子动力学模拟量化对超薄多层金刚石状碳涂层基材的保护性和粘附性
机译:P01.077使用肿瘤治疗场(TTFields)优化胶质母细胞瘤治疗的阵列布局-倾斜阵列布局的使用超过了计算机仿真模型中默认的左右/前后位置
机译:使用模拟和AHP / DEA测定半导体封装衬底线中的新布局