Department of Materials Science Engineering, Inha University, 253 Yonghyeon-dong, Incheon 402-751, Korea;
p-type ZnO; atomic layer deposition; electrical resistivity; carrier concentration; photoluminescence;
机译:利用原子层外延技术和NH_3作为掺杂源生长p型ZnO薄膜
机译:氮离子掺杂的外延生长在ZnSe衬底上生长的氮掺杂p型ZnO薄膜和ZnO / ZnSe p-n异质结
机译:远程等离子体原位原子层掺杂制备的氮控ZnO薄膜的局部电子结构和电学特性
机译:用原子层外延制备的氮掺杂P型ZnO薄膜的生长
机译:碳化硅上III族氮化物的Movvd生长:从薄膜到原子薄层
机译:通过原子层沉积制备的各种衬底和ZnO超薄种子层对ZnO纳米线阵列生长的影响的研究
机译:通过原子层沉积制备的各种衬底和ZnO超薄种子层对ZnO纳米线阵列生长的影响的研究
机译:aLE(原子层外延)和mBE(分子束外延)方法在层状Hg(1-x)Cd(x)Te薄膜生长中的应用